TSQ Quantum XLS是用于GC/MS痕量分析的三重四极杆系串接气质的创新产品。这个系统拥有行业领先的分析灵敏度和选择性。
· DuraBrite IRIS离子源技术提供更高的灵敏度和耐用性。
· 对基质复杂的样品有最高的选择性和更高质量分辨率(H-SRM)。
· 在一次GC运行中分析目标化合物的数量几乎没有上限,驻留时间低至1 ms。
· 根据化合物保留时间设定的SRM参数通过Excel表格可导入EZ-方法设置。
· QED-MS/MS可同时定量和鉴定。
· 无需释放真空即可更换的离子盒。
· 脉冲正负离子化学电离(PPINICI)模式。可在GC/MS和LC/MS之间互相转换。
· 质量数范围为1.2-3000u。
· 零串扰90°弯曲碰撞室和低噪声水平。
· 高精度双曲面四极杆技术提高选择性和H-SRM能力。
· SSD使复杂基质中的样品定量更可信。
· 真空锁定设计无需释放真空可拆卸离子盒或者转换离子化模式。
· 更好的分析灵活性,可快速从EI模式转换到CI模式。
· 可在气相和液相分离技术之间相互转换。
· 符合21 CFR Part 11的软件合乎法规要求。
· QuanLab Forms分层应用软件可轻松采集、查看和报告GC-MS数据。